हेफ़नियम डाइबोराइड बोरान और हेफ़नियम तत्वों से बना एक यौगिक है, जिसे अक्सर HfB2 के रूप में संक्षिप्त किया जाता है।हेफ़नियम डाइबोराइड में उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता है और यह उच्च तापमान और मजबूत कम करने वाले वातावरण में स्थिर रह सकता है।इसमें उच्च गलनांक, उच्च कठोरता, अच्छा विद्युत इन्सुलेशन और प्रकाश संचरण होता है, और इसे उच्च चुंबकीय क्षेत्र में चुम्बकित किया जा सकता है।हेफ़नियम डाइबोराइड को बोराइड्स और हाइड्राइड्स की प्रतिक्रिया से तैयार किया जा सकता है।इसका उपयोग मुख्य रूप से उच्च तापमान वाले सिरेमिक, इलेक्ट्रॉनिक उपकरण, एयरोस्पेस और रक्षा उद्योग और अन्य क्षेत्रों के उत्पादन में किया जाता है।हेफ़नियम डाइबोराइड में एक क्रिस्टल संरचना होती है, और इसकी क्रिस्टल संरचना बोरॉन और हेफ़नियम परमाणुओं से बनी होती है, और इसकी इलेक्ट्रॉनिक संरचना और क्रिस्टल संरचना बहुत स्थिर होती है।इसके अलावा, इसमें अच्छे विद्युत और ऑप्टिकल गुण भी हैं, और इसका उपयोग उच्च तापमान वाले ट्रांजिस्टर, लेजर और अन्य इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के निर्माण के लिए किया जा सकता है।
हेफ़नियम बोराइड पाउडर संरचना (%) | ||||
श्रेणी | एचएफबी2 | O | C | नमी |
एचएफबी2 | 90.5%मिनट | 2%अधिकतम | 1.5%अधिकतम | 0.2अधिकतम |
1. पहनने के लिए प्रतिरोधी कोटिंग;क्रूसिबल अस्तर और संक्षारण प्रतिरोधी रासायनिक उपकरण;एंटी-ऑक्सीकरण मिश्रित सामग्री;आग रोक सामग्री, पिघली हुई धातु के संक्षारण रोधी अवसर;
2. गर्मी बढ़ाने वाले योजक;उच्च तापमान प्रतिरोध;उच्च तापमान प्रतिरोधी, संक्षारण प्रतिरोधी और ऑक्सीकरण प्रतिरोधी विशेष कोटिंग्स;
3. इसका उपयोग मुख्य रूप से मिश्रित सिरेमिक के उत्पादन के लिए एक सामग्री के रूप में किया जाता है;इसका उपयोग न्यूट्रॉन अवशोषक के रूप में किया जा सकता है;
4. उच्च तापमान वाले सिरेमिक, उच्च गति वाले विमान नाक शंकु, विमानन, एयरोस्पेस और अन्य क्षेत्र।
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